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RTP-100 

升温速率高达 150 K/sec 的快速热真空工艺烘箱。 

主要特点是

  • 良好的温度均匀性

  • 精确控制的斜升率和快速斜降率

  • 流程周转率低

  • 舒适的气体控制

  • 占地面积小的桌面系统

带前置抽屉的多用途桌面单元,适用于以下应用:

  • 适用于各种半导体工艺的出色工具

  • 实施新的半导体工艺

  • 原型研究

  • 质量控制

  • 退火

  • 快速热处理

  • SiAu、SiAl、SiMo合金化

  • 低 k 电介质

  • 植入后退火

  • 铜膏烧成

  • 电阻膏烧制

  • 其他工艺按需


技术数据:

  • 适用于最大 100 mm (4") 或 100 mm x 100 mm 基板尺寸的单晶圆

  • 由石英玻璃制成的处理室

  • 带集成进气口和排气口

  • 包括。一条带有氮气质量流量控制器的工艺气体管线(5 nlm = 每分钟标准升)

  • 由 18 个红外线灯 (20 kW) 加热

  • 上下加热(可选)

  • 可用于外部泵系统的真空(最高 10E-3 hPa,最高 10E-6 hPa:参见 RTP-100-HV)

  • SPS 过程控制器,带有 50 个程序,每个程序最多 50 个步骤(以太网接口),SIMATIC

  • 7" 触摸屏,便于编程和过程控制

  • 最大限度。温度 1200 °C    

  • 热电偶温度控制

  • 需要水冷

  • 电气连接类型:32 A CEE 插头(3x 230 V,3 相,N,PE,20 kW)

  • 烤箱尺寸:504 x 504 (700) x 570 mm (wx dxh)

  • 体重:55公斤

烤箱将由西门子 SPS 控制器编程。这允许存储 50 个程序,并保存所有温度曲线和段。
可应要求提供水冷却器、附加流量计、附加气体管线、附加热电偶等选项和附件。该工具
适用于各种应用程序和客户。小尺寸允许舒适地装载和卸载腔室。烤箱可以很容易地放在
标准的实验室桌子上。

选项和附件:

RTP-100带 1 个 MFC 的氮气 (5 nlm) 基本单元
RTP-MFC质量流量控制器(总共最多 4 个)
VAC I真空高达 3 hPa,包括。真空传感器和阀门(不包括泵)
VAC II真空高达 10E-3 hPa,包括。真空传感器和阀门(不包括泵)
国会议员隔膜或隔膜泵
RVP旋片泵
RTP-牛氧气测量
RTP-MM水分测量
RTP-H2+H2S氢气模块使用 100% 氢气和安全装置,包括。多功能控制器
RTP-软件冷却器和/或真空泵的开关盒
RTP-TC添加。在设备上测量的热电偶(最多 1 个)
RTP录像机VCR 连接器和线路(应要求提供)
世界冠军III闭环水冷站
RTP-GP石墨板或基座(SiC 涂层:应要求提供)
RTP-PC-100与一个过程控制器单元(双包烤箱)一起使用的附加烤箱室 100 mm
RTP-QR-50适用于 50 mm 晶圆的适配器
RTP-QR-75适用于 75 mm 晶圆的适配器