RTP-100
升温速率高达 150 K/sec 的快速热真空工艺烘箱。
主要特点是
良好的温度均匀性
精确控制的斜升率和快速斜降率
流程周转率低
舒适的气体控制
占地面积小的桌面系统
带前置抽屉的多用途桌面单元,适用于以下应用:
适用于各种半导体工艺的出色工具
实施新的半导体工艺
原型研究
质量控制
退火
快速热处理
SiAu、SiAl、SiMo合金化
低 k 电介质
植入后退火
铜膏烧成
电阻膏烧制
其他工艺按需
技术数据:
适用于最大 100 mm (4") 或 100 mm x 100 mm 基板尺寸的单晶圆
由石英玻璃制成的处理室
带集成进气口和排气口
包括。一条带有氮气质量流量控制器的工艺气体管线(5 nlm = 每分钟标准升)
由 18 个红外线灯 (20 kW) 加热
上下加热(可选)
可用于外部泵系统的真空(最高 10E-3 hPa,最高 10E-6 hPa:参见 RTP-100-HV)
SPS 过程控制器,带有 50 个程序,每个程序最多 50 个步骤(以太网接口),SIMATIC
7" 触摸屏,便于编程和过程控制
最大限度。温度 1200 °C
热电偶温度控制
需要水冷
电气连接类型:32 A CEE 插头(3x 230 V,3 相,N,PE,20 kW)
烤箱尺寸:504 x 504 (700) x 570 mm (wx dxh)
体重:55公斤
烤箱将由西门子 SPS 控制器编程。这允许存储 50 个程序,并保存所有温度曲线和段。
可应要求提供水冷却器、附加流量计、附加气体管线、附加热电偶等选项和附件。该工具
适用于各种应用程序和客户。小尺寸允许舒适地装载和卸载腔室。烤箱可以很容易地放在
标准的实验室桌子上。
选项和附件:
RTP-100 | 带 1 个 MFC 的氮气 (5 nlm) 基本单元 |
RTP-MFC | 质量流量控制器(总共最多 4 个) |
VAC I | 真空高达 3 hPa,包括。真空传感器和阀门(不包括泵) |
VAC II | 真空高达 10E-3 hPa,包括。真空传感器和阀门(不包括泵) |
国会议员 | 隔膜或隔膜泵 |
RVP | 旋片泵 |
RTP-牛 | 氧气测量 |
RTP-MM | 水分测量 |
RTP-H2+H2S | 氢气模块使用 100% 氢气和安全装置,包括。多功能控制器 |
RTP-软件 | 冷却器和/或真空泵的开关盒 |
RTP-TC | 添加。在设备上测量的热电偶(最多 1 个) |
RTP录像机 | VCR 连接器和线路(应要求提供) |
世界冠军III | 闭环水冷站 |
RTP-GP | 石墨板或基座(SiC 涂层:应要求提供) |
RTP-PC-100 | 与一个过程控制器单元(双包烤箱)一起使用的附加烤箱室 100 mm |
RTP-QR-50 | 适用于 50 mm 晶圆的适配器 |
RTP-QR-75 | 适用于 75 mm 晶圆的适配器 |