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    Alpha plasma Q系列产品是设计用做晶圆制造工艺中的微波等离子去胶的。因为微波的活化作用,其等离子体对晶圆上的光刻胶和浮渣的刻蚀效果最有效。Alpha Plasma 去胶机 Q系列可以被应用到干法或者湿法去胶工艺前后,用来去除普通光刻胶或者其他环氧树脂型光刻胶。在单片和批处理过程中,该微波等离子体刻蚀工艺可提供一致的刻蚀速率,均匀性和可重复性。其独有的等离子刻蚀能力也同样可用于SU8和MEMS制造中的牺牲层去除。


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